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金莎娱乐官方网站:真空镀膜技术的一般术语

金莎娱乐官方网站: 发布日期:2020-03-14 00:00 来源: 点击:

真空镀膜技术的一般术语

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    1.1真空镀膜vacuumcoating:在处于真空下的基片上制取膜层的一种方法。 

    1.2基片substrate:膜层承受体。

    1.3试验基片testingsubstrate:在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和(或)试验的基片。

    1.4镀膜材料coatingmaterial:用来制取膜层的原材料。

    1.5蒸发材料evaporationmaterial:在真空蒸发中用来蒸发的镀膜材料。

    1.6溅射材料sputteringmaterial:有真空溅射中用来溅射的镀膜材料。

    1.7膜层材料(膜层材质)filmmaterial:组成膜层的材料。

    1.8蒸发速率evaporationrate:在给定时间间隔内,蒸发出来的材料量,除以该时间间隔

    1.9溅射速率sputteringrate:在给定时间间隔内,溅射出来的材料量,除以该时间间隔。

    1.10沉积速率depositionrate:在给定时间间隔内,沉积在基片上的材料量,除以该时间间隔和基片表面积。

    1.11镀膜角度coatingangle:入射到基片上的粒子方向与被镀表面法线之间的夹角。


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